IC制造工艺

发布时间：2005-12-19

资料简介：

本资料为IC制造工艺，介绍了IC的各种制造工艺，内容全面，图文并茂，可供感兴趣的专业人士下载学习和研究使用。
主要内容：
刻蚀
刻蚀的品质
湿法刻蚀
化学机械抛光
等离子体刻蚀和高压等离子体刻蚀
刻蚀SiO2的剖面
平板式等离子体刻蚀系统
离子铣
离子铣过程可能发生的问题
反应离子刻蚀
高密度等离子体刻蚀
剥离技术